扩散炉是半导体制造过程中非常重要的设备之一。它利用高纯度气体将掺杂源分子输送到制成晶体管的硅片上，从而改变硅片材料的导电性能，是进行掺杂工艺的关键步骤之一。
在扩散炉中，硅片必须先进行氧化处理以增强表面的自然氧化，这样可以减少硅子表面的纯度问题。然后将硅片放在扩散炉的一端，并在高温下注入掺杂源分子，通过炉子中的温度梯度把掺杂源分子扩散到硅片中，从而改变硅片的导电性能。
扩散炉广泛应用于半导体和集成电路制造过程中，主要用于掺杂硅片以调节硅片的导电性能。掺杂后的硅片可用于制造各种半导体器件，如晶体管、二极管等。此外，扩散炉还可用于制造太阳能电池板、LED等产品。